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PVD真空鍍膜技術(shù)性常見方式

發(fā)布日期:2020-10-30 作者:正德 點擊:

(1)真空泵蒸鍍:將需鍍膜的基體清理后放進鍍膜室,抽時間后將膜料加溫到高溫,使蒸汽做到約13.3Pa進而蒸汽分子結(jié)構(gòu)飛到基體表面,凝固而成薄膜。

PVD真空鍍膜

(2)負極磁控濺射鍍:將需鍍膜的基體放到負極正對面,把稀有氣體(如氬)進入已抽時間的房間內(nèi),維持氣體壓強約1.33~13.3Pa,隨后將負極接好2000V的直流穩(wěn)壓電源,便激起電弧放電,帶正電荷的氬正離子碰撞負極,使其射出去分子,磁控濺射出的分子根據(jù)可塑性氛圍沉積到基體上產(chǎn)生膜。


(3)有機化學液相沉積:根據(jù)分解反應(yīng)所選中的金屬化合物或有機物,得到沉積薄膜的全過程。


(4)等離子噴涂:本質(zhì)上等離子噴涂系真空泵蒸鍍和負極磁控濺射鍍的有機結(jié)合,兼具二者的加工工藝特性


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